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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制作业厂最靠近苏北位置,大部分加工89英寸光电器件晶圆,单日废水处理工艺减排出量约800吨。鉴于加工整个过程中应用很大氢佛酸开始晶圆蚀刻,导至废水处理工艺中氟化物浓硫酸浓度达200-300mg/L,远超发展中国家减排出规定(10mg/L如下)。 废污水的成分及因素 焦化废水注意产自多个过程: 晶圆蚀刻生产工艺 :含高密度氟化物(HF)、氯化铵及大量高价属 生物学物理打磨(CMP)污废水 :含纳米技术级硅颗粒状、有机酸络合剂 仪器除垢焦化废水 :含异丙醇、挥发酚等生物碳物 正确处理的鑫霖环保图 选择"生物学放置+混疑放置+厚度滤过"三級除理设备: 四级处置 :污泥脱水氯化钙和氢氧化物钙,行成氟化钙乳浊液,氟化物的还原率达85% 三级治理 :获取PAC(缩聚氯化铝)和PAM(聚丙稀酰胺),除去溶液态污染源物 3级办理 :确认多导电介质滤过器和活性酶炭物理吸附,有水出氟化物盐浓度比较稳定在8mg/L这 核心装置例如:pH自行调理软件系统、斜管沉积池、板框设备(飞灰出现脱水)。 终结结果 楼盘作业五年监测统计资料统计资料信息显示: 氟化物平均的氧浓度:7.2mg/L(远低于发展中质量标准规范) COD出掉率:92% 污水水分含量率:≤65% 年收旧氟化钙副设备约150吨,进行信息化充分利用

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