某半导体行业制作工厂因晶圆除垢工艺程序发生含氨生活污水，的水量200吨/天。生活污一般的水都除挥发酚外还具有氟化物和进样器高价属，办理難度大。地方减排特殊要求特殊要求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生活污水有效成分及來源 晶圆擦洗电镀废水（通常原因）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀流程废水处理工艺：含氢化物发生器铜、镍等高价属，pH值下跌大 CMP机磨生活污水：含硅粒子及挥发酚 净化处理技术的流程 主要采用"耐腐蚀沉积+膜提取+折点氯化"女子组合生产技术： 预办理 ：加药系统CaCl2除氟，控住pH在7.5-8. 超滤膜系统软件 ：剔除0.01μm这科粒物 反渗透膜到溶缩 ：将氧化还原电位高浓至1000mg/L以上内容 折点氯化 ：小于调节氯加药系统量，将氟化物转变为氦气 阴阳离子互换 ：有效保障了血本属达到 结果效率 氧化还原电位不稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属成分最低的检测限 水回收率达75% 污泥处理制造量降低40%